本文標題："晶粒結(jié)構(gòu)組成結(jié)構(gòu)分析用圖像顯微鏡-金屬的滲層晶粒"
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晶粒結(jié)構(gòu)組成結(jié)構(gòu)分析用圖像顯微鏡-金屬的滲層晶粒
加熱速度對1100℃時形成的滲硅層組織的影響有其自
身的特點。在所研究過的保溫時間范圍內(nèi)，優(yōu)先保持較細晶
粒底層晶粒尺寸(3000℃/s}。這可能是由于在高溫下原始組
織愈細，滲層晶粒的再結(jié)品和合并成長愈強烈的緣故。
滲硅層晶粒的優(yōu)先增長方向，取決于電加熱滲硅規(guī)范。對
于低K滲硅工藝，柱狀晶粒結(jié)構(gòu)的特征較明顯。大半是垂直于
滲硅表面的定向晶粒。在高溫滲硅時，等軸晶粒比較多，這些
等軸晶粒在平行于試樣表面的方向上可能具有較大的尺寸。
由于滲硅層的組織在很大程度上取決于底層組織，應該
同時研究一下在不同加熱速度下，奧氏體晶粒和滲層的增長.
動力學。
當在很小的速度下進行反應時，在薄的保護膜中，一般看
到原始金屬的滲層晶粒在方向上類似, 表面膜愈薄，這.
種類似性就愈大。在厚的氧化皮中，也看到了優(yōu)先的晶粒取二
向性。在冷軋鐵板上，氧化皮晶體正好和鐵的鐵素體晶粒的
尺寸、形狀和位置相當
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