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本文標(biāo)題:"集成電路檢測(cè)分析用的立體顯微鏡制造廠商及型號(hào)"

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集成電路檢測(cè)分析用的立體顯微鏡制造廠商及型號(hào)

 
 
    然而,利用入射光時(shí),為了易于暗場(chǎng)照明.必須利用配備有環(huán)狀聚光鏡的物鏡或利
用包含與光路中心相一致的暗場(chǎng)光闌的物鏡。因此,暗場(chǎng)照明要求專用于暗場(chǎng)顯微術(shù)
的專用物鏡(前面提到的Leitz WetzlarTM L 50 X /0. 60 NA DF屬于暗場(chǎng)物鏡,DF表
示暗場(chǎng))。
 
    要討論的最后一項(xiàng)技術(shù)楚干涉反差照明技術(shù)。干涉反差照明的專用形式是諾馬
爾斯基(Nomarski )差動(dòng)干涉反差照明(DIC)。這項(xiàng)技術(shù)十分受集成電路分析入員歡
迎,因?yàn)槔眠@項(xiàng)技術(shù)時(shí)很細(xì)微的細(xì)節(jié)都變得非常明顯。有時(shí),它也會(huì)表現(xiàn)出表面凸
起。同暗場(chǎng)照明一樣,干涉反差照明需要特殊的顯微鏈設(shè)備和轉(zhuǎn)換器,用于構(gòu)成每臺(tái)
顯微鏡的專用裝置都委托顯微鏡制造完成。
 
集成電路故障分析技術(shù)顯微鏡制造廠
 

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